黑平台不出款有办法吗

黑平台不出款有办法吗进入掩模新时代

Ai芯天下2019-01-11 15:34

  伴随(sui)黑(hei)平(ping)台(tai)不(bu)出(chu)(chu)款(kuan)有(you)办(ban)法(fa)(fa)吗的(de)发展(zhan),随(sui)之而来(lai)的(de)是黑(hei)平(ping)台(tai)不(bu)出(chu)(chu)款(kuan)有(you)办(ban)法(fa)(fa)吗光刻技(ji)术(shu)的(de)发展(zhan),光刻技(ji)术(shu)经历了从(cong)最(zui)初的(de)接触式光掩模(mo)技(ji)术(shu)起步,到今(jin)天的(de)世界(jie)最(zui)先进光刻技(ji)术(shu)已经跨越到了7nm。弹指间,技(ji)术(shu)变(bian)革的(de)脚步始终(zhong)不(bu)变(bian),黑(hei)平(ping)台(tai)不(bu)出(chu)(chu)款(kuan)有(you)办(ban)法(fa)(fa)吗也进入(ru)了掩模(mo)新(xin)时代(dai)。

  掩模产业发展增速显著

  我(wo)国(guo)(guo)黑(hei)平(ping)台(tai)不出(chu)款(kuan)有(you)办法(fa)吗产(chan)业发展面临着前所未有(you)的(de)新机遇。一方(fang)面,我(wo)国(guo)(guo)逐步成(cheng)为世(shi)界上黑(hei)平(ping)台(tai)不出(chu)款(kuan)有(you)办法(fa)吗最大的(de)消费(fei)国(guo)(guo),另一方(fang)面未来几年(nian)国(guo)(guo)内和国(guo)(guo)际(ji)知名企业纷纷登陆中国(guo)(guo)建设新的(de)晶圆厂(chang)。

  以上产业(ye)市场的积极变化(hua),对(dui)掩(yan)模(mo)行(xing)业(ye)的配套发展(zhan)(zhan)可以说是重大历史(shi)机(ji)遇,我们要在(zai)清醒认(ren)识自我的同时,抓住(zhu)机(ji)遇,群策(ce)群力(li),全方位(wei)、大视野、大格(ge)局的有效开展(zhan)(zhan)项目(mu)论(lun)证和建设(she),扩(kuo)大国际(ji)合作的深度与(yu)广(guang)度,多渠道、全方位(wei)开展(zhan)(zhan)合作,实现掩(yan)模(mo)行(xing)业(ye)飞跃(yue)发展(zhan)(zhan)。

  创新(xin)是产(chan)业(ye)发(fa)展(zhan)(zhan)的灵(ling)魂(hun),是不(bu)竭的动力。掩模产(chan)业(ye)的创新(xin)发(fa)展(zhan)(zhan)应不(bu)仅停留在技术、管理上,更(geng)应该把制度、体制创新(xin)放(fang)在突(tu)出(chu)位置,激发(fa)人才(cai)的主观(guan)创造性,最(zui)终(zhong)打造出(chu)企业(ye)长(zhang)期(qi)发(fa)展(zhan)(zhan)的核心(xin)竞争力。

  技术变革助助推社会进步

  光(guang)刻分辨率取(qu)决于照(zhao)明(ming)系统(tong)的部分相(xiang)干(gan)性、掩(yan)模图(tu)形空间(jian)频率和衬比及成象系统(tong)的数值孔(kong)径等(deng)。相(xiang)移掩(yan)模技(ji)术的应用(yong)有(you)(you)可能用(yong)传(chuan)统(tong)的光(guang)刻技(ji)术和i线光(guang)刻机在最佳(jia)照(zhao)明(ming)下(xia)刻划出(chu)尺寸为传(chuan)统(tong)方法之(zhi)半的图(tu)形,而且具有(you)(you)更大的焦深和曝光(guang)量范(fan)围。相(xiang)移掩(yan)模方法有(you)(you)可能克(ke)服线/间(jian)隔图(tu)形传(chuan)统(tong)光(guang)刻方法的局限性。

  随着移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)掩(yan)(yan)模(mo)(mo)技(ji)术(shu)的发展,涌现出众多的种(zhong)类(lei),大体上可分(fen)为交替式移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)掩(yan)(yan)膜技(ji)术(shu)、衰减(jian)式移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)掩(yan)(yan)模(mo)(mo)技(ji)术(shu);边缘增强(qiang)型相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)(yi)(yi)掩(yan)(yan)模(mo)(mo),包括亚分(fen)辨(bian)率(lv)(lv)相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)(yi)(yi)掩(yan)(yan)模(mo)(mo)和自对准相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)(yi)(yi)掩(yan)(yan)模(mo)(mo);无铬全(quan)透(tou)明移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)掩(yan)(yan)模(mo)(mo)及复合(he)移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)方(fang)式(交替移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)+全(quan)透(tou)明移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)+衰减(jian)移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)+二元铬掩(yan)(yan)模(mo)(mo))几类(lei),尤其以交替型和全(quan)透(tou)明移(yi)(yi)(yi)(yi)相(xiang)(xiang)掩(yan)(yan)模(mo)(mo)对分(fen)辨(bian)率(lv)(lv)改善最(zui)显著,为实现亚波长光刻创(chuang)造了有利条件。

  全透(tou)明移(yi)相(xiang)掩模的(de)(de)特点(dian)是利用大于某宽度(du)的(de)(de)透(tou)明移(yi)相(xiang)器(qi)图形(xing)边(bian)(bian)(bian)缘光相(xiang)位突然发生180度(du)变化,在(zai)移(yi)相(xiang)器(qi)边(bian)(bian)(bian)缘两侧(ce)衍射场的(de)(de)干涉效应产(chan)生一个形(xing)如“刀刃(ren)”光强分布(bu),并在(zai)移(yi)相(xiang)器(qi)所有边(bian)(bian)(bian)界线上(shang)形(xing)成光强为零的(de)(de)暗(an)区,具有微细(xi)线条一分为二的(de)(de)分裂(lie)效果,使成像分辨(bian)率提高近1倍。

  光学曝光技术(shu)(shu)的(de)潜力,无(wu)论从理论还是(shi)实(shi)践上看都令人惊叹,在实(shi)用(yong)化(hua)方面取得(de)最引人注目进(jin)展的(de)要数移(yi)相掩模技术(shu)(shu)、光学邻(lin)近效应校正技术(shu)(shu)和离轴(zhou)照明技术(shu)(shu),尤其浸没透镜曝光技术(shu)(shu)上的(de)突(tu)破(po)和两次曝光技术(shu)(shu)的(de)应用(yong),为(wei)分辨率增强技术(shu)(shu)的(de)应用(yong)更创造了有利条(tiao)件。

  在后光学光刻(ke)的(de)(de)技(ji)(ji)术中,其最主要(yao)(yao)且(qie)最困(kun)难的(de)(de)技(ji)(ji)术就是(shi)(shi)掩模制造(zao)技(ji)(ji)术,其中1:1的(de)(de)光刻(ke)非常困(kun)难,是(shi)(shi)妨碍技(ji)(ji)术发(fa)展(zhan)的(de)(de)难题之一。所以(yi)说(shuo),我们认(ren)为掩模开发(fa)是(shi)(shi)对于其应用于工业发(fa)展(zhan)的(de)(de)重要(yao)(yao)环节,也是(shi)(shi)决(jue)定成败的(de)(de)关键。

  掌握核心技术尤为重要

  其一,是否掌(zhang)握(wo)了核心(xin)技术(shu)要(yao)(yao)看(kan)是否从原理(li)上吃(chi)透(tou)技术(shu)。任何技术(shu)都有(you)其相应的基(ji)础理(li)论支撑,要(yao)(yao)掌(zhang)握(wo)核心(xin)技术(shu),必须(xu)深刻理(li)解(jie)其技术(shu)原理(li),不但(dan)知其然还要(yao)(yao)知其所以(yi)然。

  具(ju)体体现(xian)在(zai),所用技术在(zai)产(chan)品全寿(shou)命周期内的作用机理(li)、效应(ying)(ying)和范(fan)围在(zai)制造、测试、试验、运(yun)行、维护等所有环(huan)节和条(tiao)件(jian)下均(jun)具(ju)有可预测性(xing)。只要满足确(que)定的条(tiao)件(jian)就能完(wan)全复现(xian)产(chan)品相应(ying)(ying)的行为,不(bu)受地域(yu)或时间的限制。

  所(suo)用技(ji)术在(zai)一(yi)个(ge)时间(jian)(jian)、地点(dian)可以生(sheng)产(chan)出(chu)产(chan)品(pin)(pin)(pin),可以复制到另外(wai)一(yi)个(ge)时间(jian)(jian)、地点(dian),生(sheng)产(chan)出(chu)完(wan)全一(yi)样的(de)产(chan)品(pin)(pin)(pin)。对核(he)心(xin)技(ji)术掌握的(de)程度还反映(ying)在(zai)产(chan)品(pin)(pin)(pin)的(de)质量(liang)上,掌握越到位,产(chan)品(pin)(pin)(pin)的(de)成(cheng)品(pin)(pin)(pin)率(lv)越高,质量(liang)越有保(bao)证。

  其(qi)二(er),是(shi)否掌(zhang)握了核(he)心技术还要看是(shi)否具备(bei)了基于核(he)心技术的创(chuang)新(xin)拓展能力。如果(guo)把从0到1看作(zuo)是(shi)初步具备(bei)了核(he)心技术,但是(shi)还不(bu)能认为(wei)已(yi)经掌(zhang)握了核(he)心。

  其三,对(dui)核(he)心技术(shu)的(de)(de)运用是否(fou)让企业在(zai)行(xing)业内占据了(le)技术(shu)制高点,是否(fou)获得了(le)竞争对(dui)手在(zai)短时间(jian)内无法超(chao)越的(de)(de)技术(shu)优(you)势。这体现了(le)核(he)心技术(shu)的(de)(de)关键性(xing)、独(du)特性(xing)和先进性(xing)的(de)(de)特性(xing)。

  其(qi)四,是(shi)否已形成完整的(de)技(ji)术(shu)(shu)体(ti)系(xi),并(bing)实施(shi)了有(you)(you)效(xiao)管理(li)。核心技(ji)术(shu)(shu)不是(shi)单(dan)个分散的(de)技(ji)术(shu)(shu),而是(shi)一个技(ji)术(shu)(shu)体(ti)系(xi)(当然,这个技(ji)术(shu)(shu)体(ti)系(xi)里面(mian)不一定全都是(shi)创新的(de)技(ji)术(shu)(shu),大部分还是(shi)原有(you)(you)的(de)技(ji)术(shu)(shu)),不仅(jin)包(bao)括(kuo)技(ji)术(shu)(shu)原理(li)、方法和(he)流程,还包(bao)括(kuo)产品研(yan)发的(de)所有(you)(you)要(yao)素,如(ru):人(ren)才队伍、工艺(yi)设备(bei)、基础配套条件等(deng)。

标签: 黑平台不出款有办法吗|掩模|核心技术
责任编辑:谢希源
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